对于铜含量或硅含量高的铝合金，按常规的硬质阳极氧化规范不易得到性能良好的膜层(硬度低、膜层薄)。为解决这_问题，采用波动电流有良好的结果。这种电源可采用交、直流叠加或将两组整流元件进行不同组合而获得单相半波、全波、不等值全波或不完全整流四种波形(见图1与图2)。采用上述特定波形的电源进行硬质阳极氧化，可以解决这一难题。同时还可以使溶液工作温度提高。
例如：含铜3．9％～4．8％的2A14铝合金在硫酸l50～200g／L的溶液中，用正，反向电流密度为3／1或4／1的单相不完全整流电流，在5～10℃下硬质阳极氧化50min，可得到膜厚50μm，显微硬度400～500HV的膜层。又如，含硅达l0％～13％的ZAlSil2铸造铝合金在硫酸l00～150g／L、草酸15～20g／L的溶液中，用正、反向电流密度为2／1或3/1的单相不完全整流电流，在10～20℃下硬质阳极氧化35min可得到厚30μm，显微硬度360HV的膜层；当阳极化65min时可得到厚40μm，显微硬度330HV的膜层。
图1在不同I直与I交比例下，交、直流叠加的电流波形
图2整流元件不同组合所得电流波形 |
