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专利号(申请号)：200520134388.0 公开（公告）号：CN2860174 公开( 公告)日：2007-01-24 申请日：2005-12-29 申请（专利权）人：金华泰丰表面处理技术开发有限公司 页 数：5 摘要： 本实用新型公开了一种真空镀膜水钻。在该水钻底部由真空镀膜技术制备的反光层和覆在该反光层外的保护层组成。将磨制成钻石外观的水钻用去离子水清洗，烘干；底部朝上放入真空镀膜设备中，首先镀银或铝或铬层，然后转移到真空室的另一位置，进一步镀铜或铜锌等合金层。本实用新型水钻在制备过程中采用环保型的表面处理技术，在制备银反光层时不存在废水处理问题，同时还可用廉价的铝或铬来替代贵金属银，其反光效果与镀银层接近，并且真空制备的银或铝或铬镀层与水钻表面结合牢固，不易脱落。此外，保护膜不使用含有机溶剂的涂料，无挥发性有机化合物排放造成的环保问题，根据合金组成不同，还可以获得各种色泽的外观。 |
