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光亮电镀与添加剂:平滑细晶理论—提出平滑细晶理论的依据

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-27  浏览次数:1279

提出平滑细晶理论的依据

①凹凸不平的表面可用各种打光方法使其变亮,而光亮的表面极为平滑。当其再度变为粗糙时,光亮度则消失。

②反光性好的表面,肉眼看去都是光亮的。若把玻璃的反射率定为100%,镜面光亮镀层的反射率为80%以上,一般光亮镀层的反射率在50%~80%,无光或灰暗镀层的反射率则在20%以下。实际测定由硫酸镍、氯化钾、硼酸和萘三磺酸所得镀层的反射率为.59%,而不含光亮剂的无光亮镀镍层的反射率为6.6%。

③用机械或电化学方法对金属表面进行抛光时,仅当凹凸不平的金属表面被整平到相当程度时,金属才显出光亮性来,当金属表面小于0.4μm的显微凹凸度(也叫粗糙度,coarseness,指表面最凸出处与最凹处的金属厚度之差)都被整平(粗糙度小于0.15μm)时,就可获得镜面光亮的表面。这说明,光亮乃表面平滑的反映,只有很平滑的表面才具有很强的反光作用,这就是打光的金属镜也可作为普通镜子使用的原因。

④同一种镀液在打光表面上比在凹凸不平的表面上获得的镀层光亮。

⑤采用周期换向电流电镀时,镀层短时间作为阳极,有利于镀层表面凸出部被溶解,以消除镀层表面的显微凹凸不平,从而获得更加光亮的镀层。

⑥用相同表面粗糙度的金属加工物在含晶粒细化剂(络合剂或光亮剂)或整平剂的镀液中获得的镀层,比没有这些添加剂时获得的镀层光亮,这表示晶粒越细、表面越平、镀层也就越光亮。整平剂的整平效果越好、整平速度越快,镀层的变亮速度也越快。

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