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铜基合金电镀:微氰三乙醇胺电镀铜锡合金镀液成分及工艺条件

放大字体  缩小字体发布日期:2012-05-02  浏览次数:1486

金属铜离子含量

10~l2g/L

金属锡离子含量

15~20g/L

三乙醇胺(TEA)

30~50g/L

氢氧化钠(NaOH)

18~25g/L

游离氰化钠(NaCN)

2~3g/L

温度

55-~60℃

电流密度(DK)

1.5—3.0A/dm2

沉积速度

30~50μm/h

SK:SA

l:(2~2.5)

阳极采用含Cu 90%、含Sn l0%的Cu—Sn合金阳极。

 

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