其他磁体电镀：化学镀钴合金获得垂直磁性能镀层

   随着数字信号储存和处理量的越来越大，人们对磁存储器的容量要求也越来越高，促使人们开发新存储方式，正是在这种背景下，产生了改变传统磁记录方式的垂直磁记录方式。

   关于电磁信号的垂直记录(perpendicular magnetic recordin9，PMRj理论，其实早在20世纪80年代就已提出，和现有的工业标准相反，垂直记录要求在硬盘碟片上垂直排列记录着数字信息的磁电荷(magnetic charges)，这类似于在碟片表面垂直排列大量微小的磁铁。而目前采用的纵向记录(10ngitudinal magnetic re—cordin9，LMR)技术是在碟片表面上水平排列磁电荷。

   一般说来，提升磁信号存储容量目前有两种方法，一是提升磁道密度，二是提升数据存取单元密度。不管是现在普遍采用的纵向记录技术还是垂直记录技术，都是依靠这两种方式去增大磁体的容量。

   简单地说，垂直记录就是将磁物质的磁场方向旋转90°，以此来记录数据的一种方式——使磁粒子的排列方式与盘片(软磁底层)垂直，而不是原有的使两者呈水平关系的排列。与这种理论相对应的磁层性能的获得，就成为电子制造中的一个课题。可以采用磁控溅射的方法获得钴铬垂直磁性薄膜，但是其生产效率和成本都不能与化学沉积法相比，因此开发化学镀钴合金镀层来获得垂直磁记录膜层有很重要的工业价值。

   化学镀钴镍合金的工艺配方如下：

   从这个镀液中获得的钻镍合金膜与普通化学镀液获得的相比，膜层具有多向垂直磁性能，有可能用于垂直磁记录体。镀液以丙二酸钠作络合剂，以硫酸铵为pH缓冲剂，镀液性能稳定。

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