镀层厚度是可以通过电沉积参数进行计算的，由电流效率公式可以得到： 同时，所得金属镀层的重量也可以用金属的体积和它的密度计算出来： 式中V—金属镀层的体积，cm3；S—金属镀层的面积，cm2；δ金属镀层的厚度，cm；r-金属的密度，g／cm3。 由于实际科研和生产中对镀层的量度单位都是用的微米(µm)，而对受镀面积则都采用平方分米(dm2)做单位，这样，当我们要根据已知的各个参数来计算所获得镀层的厚度时，需要做一些换算。 由ldm2=100cm2，lcm=10000µm可得到： 将M′=Kltη代入上式得： 电镀过程中是以电流密度为参数的，也就是单位面积上通过的电流值。为了方便计算，根据电流密度的概念，D=1／S，可以将上式中的l／S换成电流密度D。而电流密度的单位是A／din2，考虑到电镀是以min计时间，代人后得： 这就是根据所镀镀种的电化学性质(电化当量和电流效率)和所使用的电流密度和时间进行镀层厚度计算的公式。 根据这个公式，可以计算出在一定电流密度下电镀一定时间的镀层厚度，也可以计算要镀得某个厚度需要多少时间。 |
