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化学镀铜前基板清洁处理工艺:孔壁处理

放大字体  缩小字体发布日期:2012-05-03  浏览次数:1337

   (1)孔壁去除环氧沾污

   印制板在钻孔时会产生瞬时高温,热量高度聚积,使孔壁表面温度超过环氧树脂玻璃化温度,造成孔壁产生一层很薄的环氧树脂固化物,用常规的除油方法很难将其处理干净,易使后面的化学镀铜出现故障。

去除环氧沾污的方法主要有以下两种。

①高锰酸钾氧化法

   将多层板浸在有机溶液中使环氧树脂溶胀,然后在50℃的高锰酸钾溶液中氧化除去环氧树脂。水洗时高锰酸根会分解形成二氧化锰沉淀在板面上,这就会造成二次污染,为此还需进行还原处理。此工艺不方便操作。

   ②硫酸一氢氟酸处理法

   首先用浓硫酸处理30s,使硫酸根与环氧基反应产生溶于水的环氧磺化物,从而达到去除孔壁环氧沾污的目的。接下来用氢氟酸水溶液腐蚀露出来的玻璃纤维,使孔壁光滑,以利于化学镀铜

   (2)孔壁调整处理

   用硫酸处理环氧树脂后,印制板孔壁上残留有带强负电性的磺酸根基团。由于胶体钯活化剂是负电性的电核基团,会被磺酸根抑制而难以吸附在孔壁上,使凹蚀处理后的环氧树脂表面没有铜的沉积,而呈现黑色斑点。采用阳离子表面活性剂对其进行调整处理后,使带负电性的表面转变为带正电性,使其很容易吸附胶体钯活化剂,最终能得到均匀的化学镀铜层。孔壁调整处理配方如下:   

柠檬酸

30g/L

十六烷基溴吡啶

0.1~0.5g/L

pH(采用氨水调整)

9

温度

室温

时间

3min

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