(1)测试方法 赫尔槽法。利用赫尔槽平面阴极和平面阳极构成一定斜度，距阳极近的阴极部位电流密度大，如250mL赫尔槽上至近阳极端距离为lcm、2cm、3cm、4cm、5cm、6cm、7cm、8cm、9cm各点，当电流1A时，电流密度各为5．1A／dm2、3．5A／dm2、2．9A／dm2、1．9A／dm2、1．4A／dm2、1．02A／dm2、0．67A／dm2、0．37A／dm2、0．10A／dm2。当电流2～5A时，各点电流密度乘以倍数即可，在电镀后，可观察到光亮范围所在的电流密度区。试验时间为5～10min。(2)XNF型镀液的光亮范围 ①光亮剂XNF-1浓度的影响，见图l[13]。由图1可见：
图1 XNF-1浓度对镀层光亮范围的影响 a．XNF-1含量小于0．8mL／L时试片全部半光亮，与只含糖精时相似； b．XNF-1增加到1．2mL／L，半光亮区缩小，大部分区域呈光亮； C．XNF-1含量在1．6～4mL／L之间，光亮度增强，大电流区(4cm宽处)接近镜面光亮，其中XNF-13mL／L时，镜面光亮区最大，半光亮区最小。 ②镀液温度t的影响，见图2[13]。 由图2可见：
图2温度对镀层光亮范围的影响 a．温度≤40℃，高电流区出现条纹； b．温度≥55℃，低电流区变暗，镀层薄； C．最适宜温度在43～53℃之间，镀层全光亮。 (3)FN型镀液的光亮范围 赫尔槽试验条件如下所述。温度58℃，电流lA，时间20min，FN型(表1配方7)与Niron型镀液光亮范围见图3。 由图3可见：
图3 FN型和Niron镍铁镀液光亮范围
a．动态电镀的光亮范围比静态光亮范围宽； b.我国的FN型镀液光亮范围与国外Niron型镀液的相仿。 (4)BNF型镀液的光亮范围 ①BNF-2光亮剂含量对光亮的影响见图4，BNF-2的含量在0.8～1.2mL／L时光亮范围最大。
图4 BNF-2的用量赫尔槽优选图 ① pH值对光亮的影响见图5，pH在3～4范围内光亮范围最大。
图5 pH值对镀层光亮度、光亮电流密度范围的影响 ③温度对光亮的影响见图6，温度在55～65℃光亮范围最宽。
图6温度对光亮电流密度范围的影响 (5)ABSB型镍铁镀液光亮范围与丁炔二醇型及0XY公司Niron型光亮范围的比较 见图7[12]。
图7 ABSB、丁炔二醇、0XY赫尔槽试验
赫尔槽试验条件：槽容积250mL，溶液温度60℃，电流2A，时间l0min。 由图7可见： ①ABSB型镀液的光亮范围最宽，在较宽的0.2～10A／dm2的电流密度区内都能获得全光亮； ②丁炔二醇型镀液的光亮范围在1～10A／dm2的电流密度区内； ③OXY公司的光亮剂的光亮范围在3～10A／dm2的电流密度区内。 参考文献 13 陈秉彝，姚士冰，杨方祖，周绍民．高整平全光亮镍铁合金电镀的研究．电镀与环 保，l989，9(6)：1～4 |
