在电镀过程的研究中,经典的电极过程行为的测试都是间接的方法。对过程的直接观测限于技术手段而难以实现,在有了电子显微镜技术后,可以对表面状态进行静态的微观观测,但对动态的过程进行观测还是存在一定困难,近年来随着微电子技术的进步,通过光电子传感器等对微观过程的表面进行观测已经成为可能。这种表面过程的直接观测实际上是通过光电子传感器将表面过程信息经电子显微镜放大后由电子计算机终端进行显示。 表面过程的直接观测对改善表面过程和开发新的表面技术有重要指导意义,是今后表面技术开发中的重要检测手段。 |
在电镀过程的研究中,经典的电极过程行为的测试都是间接的方法。对过程的直接观测限于技术手段而难以实现,在有了电子显微镜技术后,可以对表面状态进行静态的微观观测,但对动态的过程进行观测还是存在一定困难,近年来随着微电子技术的进步,通过光电子传感器等对微观过程的表面进行观测已经成为可能。这种表面过程的直接观测实际上是通过光电子传感器将表面过程信息经电子显微镜放大后由电子计算机终端进行显示。 表面过程的直接观测对改善表面过程和开发新的表面技术有重要指导意义,是今后表面技术开发中的重要检测手段。 |