| 建立了一套辉光放电等离子体对电容器薄膜进行表面处理的装置。采用N202及Ar三种气体对聚丙烯、聚酯和聚苯硫醚膜进行了表面处理。红外光谱分析表明：薄膜表面的生成物与薄膜种类、气体种类和处理强度密切相关。场扫描电镜显示了薄膜表面的刻蚀现象明显。处理过的薄膜，非晶相被去除，球晶暴露。能谱分析说明了薄膜中C元素下降。N，0元素增加，但总体改变量很小。处理前后薄膜的直流击穿电压没有明显改变，但刻蚀过程造成的薄膜表面粗化可帮助电容器的浸渍过程更充分，从而可提高电容器的使用场强与储能密度。
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