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铝合金微弧氧化技术原理及陶瓷膜特点

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-14  浏览次数:1255

关 键 词:铝合金,微弧,氧化,技术,原理,陶瓷膜,特点

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微弧氧化技术是在传统阳极氧化技术上发展起来的,其本质特征是工作电压较高(超出了阳极氧化的电压范围),从而使反应进入到一个等离子体化学和电化学综合反应的过程[3]。在这个过程中,当施加的电压超过临界击穿电压时,铝合金表面被击穿,出现大量游动的弧点,瞬间形成超高温区域(103~104K)[4],导致表层薄弱部位熔化甚至气化,在表面微孔放电通道内发生复杂的等离子体化学和电化学反应,形成新的氧化物。虽然局部瞬间温度很高,但由于表面受电解液的激冷作用,温度不会超过100℃,从而使熔融态的氧化物在激冷作用下沉积在基体表面,堆叠成陶瓷层[3,5]。

 

微弧氧化形成的陶瓷膜由疏松层(主要含r-Al203)和致密层(主要含a—Al203)组成。从铝合金表面指向基体方向,由于熔融态氧化铝的冷却速率逐渐减小,使得r相氧化铝(r一Al203)的含量逐渐减少,a相氧化铝(a—Al203)的含量逐渐增多[6]。疏松层晶粒粗大,膜层表面形貌不均匀,有许多微孔,力学性能较差:致密层是微弧氧化陶瓷层的主体,结构致密,与基体的结合也十分紧密,显微硬度超过2 000 MPa,耐磨、耐蚀和绝缘性能优良。疏松层和致密层犬牙交错,没有明显的分界。

 

铝合金微弧氧化工艺研究概况

铝合金微弧氧化工艺研究内容:电源模式

铝合金微弧氧化工艺研究内容:电参数

铝合金微弧氧化工艺研究内容:电解液

铝合金微弧氧化机理的研究现状

铝合金微弧氧化技术的应用

铝合金微弧氧化工艺研究概况:结论

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