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氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究:结论

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-17  浏览次数:1261

关 键 词:氟硼酸盐体系,电沉积,瓦合金箔,工艺研究

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4  结论

 

   (1)在氟硼酸盐体系中,各工艺参数对电沉积因瓦合金镀层中铁含量的影响差异比较明显,尤其是阴极旋转速率,说明铁的电沉积受扩散的影响较大:而在实验条件范围内,阴极电流效率的变化幅度基本稳定在士4%。

 

(2)确定了制备因瓦合金箔的最佳工艺参数为:c(Fe2+)=0.15 mol/L,v(阴极旋转)=600~900 r/min,PH=2.5~3.0,θ=45~55℃,Jk=18~25 A/dm2。

 

(3)在最佳工艺条件下得到了平整光亮、致密、柔韧性好、含铁量为62%~66%的因瓦合金箔。

 

参考文献:

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   [编辑:沮靖邦]

 

 

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