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金属外壳电镀技术

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-16  浏览次数:1233

内    容:

【 记录编号 】 273564
【 记录类型 】 文摘
【 限制使用 】 国内
【项目年度编号】 0200340028
【 成果名称 】 金属外壳电镀技术
【 省  市 】 北京  
【  分类号  】 TN305.2  TN153  
【  关键词  】 金属外壳  电镀  半导体器件  
【 成果简介 】
半导体器件军用封装外壳镀层质量长期影响器件的质量,突出问题是引线断腿、锈蚀、可焊性差。攻关后镀液采用了低应力镍、双层镀金液、电镀电源采用了国际上先进的双脉冲电镀电源,最终镀层质量满足了国家军标要求。该技术在电子行业具有普遍推广意义。
【 成果类别 】 应用技术

联系方式:

【 完成单位 】 中国科学院电子学研究所
【 完 成 人 】 许维源
【联系单位名称】 中国科学院电子学研究所
【 联系地址 】 北京市海淀区中关村路17号
【 邮政编码 】 100080
【 联系电话 】 (010)62554605
【 联 系 人 】 许维源
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