环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀标准 » 正文

中低温化学镀镍工艺的新进展:光化学法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-18  浏览次数:1306

关 键 词:中低温,化学镀镍,工艺,进展,光化学法

作    者:

内  容:

光化学法

 

   利用光化学原理在酸性镀液中实施中低温化学镀镍是近年来中低温化学镀镍的一个新的发展方向。在室温下,利用激光束的照射使镀液局部升温达到化学镀镍的引发温度,可实现光照区化学镀镍,镀速可提高几个数量级,.而且镀层性能明显改善陋[37]。同时解决了以往中低温化学镀镍须在碱性条件下进行,镀液易产生沉淀而导致镀液分解的弊端,但也存在由于温差而引起的非光照区基体金属溶解和浸蚀等缺点[38]。在此基础上,杨玉国等人[39]在酸性化学镀镍的基础液中加入光敏剂,在室温下通过普通光照实现了化学镀镍。

 

中低温化学镀镍工艺的新进展:前言

中低温化学镀镍工艺的新进展:工艺介绍

中低温化学镀镍工艺的新进展:超声波法

中低温化学镀镍工艺的新进展:脉冲化学镀法

中低温化学镀镍工艺的新进展:加速催化法

中低温化学镀镍工艺的新进展:电子载体法

中低温化学镀镍工艺的新进展:有机酸配位剂法

中低温化学镀镍工艺的新进展:结论

注:本站部分资料需要安装PDF阅读器才能查看,如果你不能浏览文章全文,请检查你是否已安装PDF阅读器!

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2