关 键 词:硫酸,甲醇,电解抛光,研究 作 者: 内 容: 结论
实验证明,硫酸一甲醇体系适用于钨的电解抛光。初步确定了此体系中钨电抛光的工艺参数:硫酸与甲醇的体积比1:7,电压15~24 V,温度l5~25 ℃,搅拌速率10 m/s。电解抛光后的钨片具有较高的表面质量,平整光滑,无划痕,呈镜面光亮,表面反射率高达98%以上,粗糙度R。由电解抛光前的ll9 nm下降到l2 nm。本文所研究的电解抛光工艺为稀有难熔金属的表面处理提供了新的处理方法。
参考文献:
[l] 刘德斌,邱龙会,付志兵.超细钨丝的电解腐蚀制备及其性能表征[J].强激光与粒子束,2006,18(3):521.524. [2] 陈泰亨.钨在碱性溶液中的阳极行为[J].上海有色金属,1994,15(4):203-206. [3] LATAWIEC A A,LOCKWOOD G H.Method of electropolishing tungsten wire:US,3287238[P1.1966-1 l-22. [4] 刘松琴,谢为民,郑秋容,等.钨在NaOH-KCl03—№C03系电解液中的阳极行为[J].材料保护,1998,31(11):27—29. [5] CORTES F R.Etectropolishing refractory metals:US,3033769[P].1962-05-O8. [6] 谢格列夫ⅡB.金属的电抛光和化学抛光[M].巩德全,译.北京:科学出版社.1961:140.142. [7] WU A T,MAMMOSSER J,PHILIPS L,ct al.Smooth Nb surfaces fabficated by buffered electropolishin8[J].Applied Surface Science,2007,253(6):3041-3052. [8] PIOTROWSKl 0,MADORE C,LANDOLT D.Electropolishing of tantalum in sulfuric acid—methanol electrolyres[J].Electrochimica Acta, 1999,44(19):3389-3399. [9] FUSHIMI K STRATMANN M,HASSEL A W.Electro'polishing ofNiTi shape memory alloys in methanolic H2S04[J].Electrochimica Acta,2006, 52(3):1290—1295. [10] 张素银,杜凯,谌加军,等.电解抛光技术研究进展[J]电镀与涂饰,2007,26(2):48-50. [11] 缪卫东.钛镍形状记忆合金电化学抛光研究[D].北京:北京有色金属研究总院,2004:72.75. [12] LANDOLT D,CKAUVY P-F,ZINGER 0.Electrochemical micro-machinin9,polishing and surface structuring of metals:fimdamental aspects and new developments[J].Electrochimica Acta,2003,48(20/22):3185.3201.
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