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关 键 词：光学系统，铝合金，材料，硬质氧化，工艺 作 者： 内 容： (1)在含有260—300 g／L硫酸、10～15 g／L草酸和10～20 g／L多元醇的溶液中，温度5～7 ℃、电流密度2～3A/dm2拼条件下氧化50 min，可获得厚度l5μm、显微硬度450 HV、镜面反射率低于8．4％的硬质氧化膜层。该氧化膜能够满足光学变焦机构对尺寸变化、表面硬度及反射率的质量要求。
(2)硫酸质量浓度、电流密度、氧化时间和温度对氧化膜的生成和溶解平衡影响较大，因此对氧化膜的反射率也有明显影响。
参考文献： [1] 王一凡，薛育．一种大口径高精度凸轮变焦机构的设计[J]．光学精密工程，2007，15(11)：1756—1759． [2] 安家菊，魏晓伟．大电流下铝合金快速硬质阳极氧化工艺的研究[J]．电镀与涂饰，2005，24(6)：29—3 1． [3] 刘志坚，刘鸿康，贺子凯，等．铝合金快速硬质阳极氧化工艺[J]．电镀与涂饰，2002，20(2)：39．41． [4] 任锐，贺子凯．铝硬质阳极氧化新工艺的研究[J]．电镀与涂饰，2003，22(4)：11一13· [5] 刘佑厚，井玉兰，胡若莹．不同电源波形的铝合金硬质阳极氧化[J]．电镀与精饰，2001，23(2)：16．19． [6] 赵建华，赵占西，李薇，等．铝合金硬质阳极氧化工艺优选[J]．腐蚀与防护，2008，29(3)：149．151． [7] FRATILA-APACHITEI L E，APACHITEI l，DUSZCZYK J．Thermal effects associated with hard anodizing ofcast aluminum alloys[J]．Journal ofApplied Electrochemistry，2006，36(4)：481-486， [编辑：吴杰] 注：本站部分资料需要安装PDF阅读器才能查看，如果你不能浏览文章全文，请检查你是否已安装PDF阅读器！ |
