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氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究:结果与讨论(三)

放大字体  缩小字体发布日期:2011-11-21  浏览次数:2099
核心提示:因此沉淀还有可能因吸附而夹杂在合金箔中,影响箔材质量。所以需要采用缓冲剂将pH控制在合适的范围,本体系中所含的硼酸即是缓冲剂。

关键词:氟硼酸盐体系,电沉积,瓦合金箔,工艺研究

3镀液pH对合金箔中铁含量和电流效率的影响

pH对合金箔中铁含量和阴极电流效率的影响如图4所示。随着镀液pH增大,电流效率逐渐提高;而铁含量先增大,在pH=3.0时达到最大值65.38%,然后随着pH的继续增大而下降,整个趋势并没有如大多数文献所报道的那样,随着pH的增加,合金箔中的铁含量呈现持续增加的趋势[11]。这可能是因为当pH>3.0时,铁镍的异常共沉积趋势减弱[12]。从图4可以看出,在实验选定的pH范围内,合金箔中的铁含量最大相差约为5.5%,说明pH对铁含量的影响不大。但在实际应用中,pH过低,则溶液的腐蚀性增强,并且析氢严重,影响箔材表观和电流效率,还有可能造成氢脆。而当pH过高时,虽然镀液的整平性得到提高,但Fe2+氧化为Fe3+的速度加快,导致镀液的稳定性降低,容易产生金属氢氧化物沉淀;而且由于铁镍合金箔本身具有磁性,因此沉淀还有可能因吸附而夹杂在合金箔中,影响箔材质量。所以需要采用缓冲剂将pH控制在合适的范围,本体系中所含的硼酸即是缓冲剂。

图4 pH对合金箔中铁含量和阴极电流效率的影响

Figure 4 Effect of pH on Fe content of alloy foil and cathodiccurrent efficiency

 

 

 

 

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