6.钨抛光表面质量的表征
通过上述一系列实验，确定了硫酸_甲醇体系中钨电抛光的工艺参数为：硫酸与甲醇的体积比1：7，电压15～24 V，温度15～25℃，搅拌速率10 m／s。在此工艺条件下对金属钨进行电抛光，抛光后的样品表面有足够的光泽，平整、光滑，呈镜面光亮。评价电抛光质量的指标一般为表面反射率和表面粗糙度。
6．1 表面反射率
抛光前表面只能照出模糊的影子，反射率最高为57％；抛光后呈镜面光滑，在2 100～2 200 nm范围内反射率高达99％，如图6所示。电解抛光大大提高了钨表面的光泽度。
6．2 表面形貌
电解抛光前，钨箔经砂纸打磨，表面有明显的划痕，易形成不规则的晶面，可能存在破碎晶粒的变形层；抛光后划痕消失，表面平整光滑，如图7所示。
图6电抛光前后钨箔的反射率 Figure 6 Reflectance of tungsten foil before and after electropolishing
图7钨箔电解抛光前后的扫描电镜照片 Figure 7 SEM images of tungsten foil before and after electropolishing
6．3 表面粗糙度
经过电抛光，钨样品的粗糙度尺Rrms。得到了明显的改善，由抛光前的119 nm下降到12 nm(如图8所示)。
图8 抛光前后钨表面的粗糙度 Figure 8 Roughness of tungsten surface before and after electropoHshing
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