1, 广泛的电流密度范围内都可以得到镜面光亮的镀层,低电流密度区也可以得到较好的光亮度,有较理想的深镀能力。
2, 操作简便,光亮剂的消耗量少,不易出现问题。
3, 极强的整平性能,光亮剂稳定性较高,兼容性能好,较理想的性价比。
4, 镀层内应力低与铜层结合力好,适用于不过酸铜,直接镀光亮镍的电镀工艺。