特征:
(1)适用于半光镍或鹸铜为底层的镀镍工艺,亦可作为铜或铁件上的直镀。
(2)填平力强,具有厚重饱满的洁白清亮光泽感、出光快、走位效果优良。
(3)药性安定、抗杂物强、不易产生分解物、操作范围宽、容易管理及维护。