用化学镀镍沉积的镀层,有一些不同于电沉积层的特性。
1.以次磷酸钠为还原剂时,由于有磷析出,发生磷与镍的共沉积,所以化学镀镍层是磷呈弥散态的镍磷合金镀层,镀层中磷的质量分数为1%~l5%,控制磷含量得到的镍磷镀层致密、无孔,耐蚀性远优于电镀镍。
2.以硼氢化物或氨基硼烷为还原剂时,化学镀镍层是镍硼合金镀层,硼的含量为1%~7%。
3.只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层,含镍量可达到99.5%以上。
4.硬度高、耐磨性良好。电镀镍层的硬度仅为l60~180HV,而化学镀镍层的硬度一般为400~700HV,经适当热处理后还可进一步提高到接近甚至超过铬镀层的硬度,故耐磨性良好,更难得的是化学镀镍层兼备了良好的耐蚀与耐磨性能。不锈钢ENP后,经400℃/1.5h热处理,可显著提高其硬度、降低脆性。
5.化学稳定性高、镀层结合力好。