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JEN-801 镀镍工艺是硫酸盐体系的电子电镀产品，具有以下特点：
1、分散能力强，电流密度范围宽，Hull 槽试验 10min0.5-10.5A/dm 2全光亮
2、出光速度快，整平性良好，小电流密度下即可达到工件高亮度
3、镀层韧性好，添加剂的脆性系数较低，可以有效改善光亮镍添加剂脆性
弊端
二、 槽液组成及操作条件
组份及条件 工艺范围
硫酸镍 280-320g/L
JEN-801A（主光剂） 0.8-1.0ml/L
氯化镍 40-50g/L
JEN-801B（辅光剂） 8-10ml/L
或 氯化钠 15-20g/L
硼酸 40-50g/L
镍润湿剂(空气搅拌) 1-2 ml/L
温度 50-65℃
十二烷基硫酸钠（阴极移动） 0.05-0.15g/L
DK 1-8A/dm2 （最佳 2-6A/dm2）
pH 3.8-4.2
D 1-3A/dm 2
三、 补充及维护
镀液配制
1、在备用槽内加入所需体积二分之一的蒸馏水，将其加温至 60~70℃加入所需硫酸镍和氯化镍，充分搅拌至溶解；
2、用 10%稀硫酸（CP）调 pH 值至 3.0，加入 2~3ml/L 双氧水（30%），搅拌半小时，然后用 4%氢氧化钠（CP）溶液调 pH 值至 5.6~6.0，并加温至 60~65℃，保温半小时；
3、维持水温 50~60℃加入 2~3g/L 活性碳，搅拌半小时，静置数小时，过滤至镀槽；
4、将所需硼酸另外用沸水溶解，过滤后加入至镀槽；
5、加水至接近预定体积，用 10%稀硫酸（CP）调 pH 值至 2.5~3.5，恒温在 55℃左右用瓦楞阴极在 DK≈0.3A/dm2左右电解处理，至瓦楞板上低电流密度区银灰色
为止；
6、取少量镀液，用霍尔槽及小型镀槽加入所需添加剂，在正常工艺条件下试镀，若不正常，则将大槽内镀液继续进行电解处理，至正常为止；
7、在大槽内，按规定量加入添加剂，在正常工艺条件试镀，直至正常。
镀液维护
JEN-801A 主要起整平, 光亮出光作用，JEN-801B 主要起走位、柔韧、增光作用，老槽液和大处理槽液添加量根据小实验而定；生产中根据实际情况采用少加勤加的原则及时添加。连续电镀中，添加剂的消耗量为：
JEN-801A 消耗量为 50～100ml/KAH；JEN-801B 消耗量为 100～150ml/KAH。
四、包装及运输
本品采用 20 Kg 塑料桶包装。