点击图片查看大图
| 一、用途与特性 | |||||||||
| 1、半光亮镍工艺专门为防腐性能要求高的电镀件而设计，是双层镍、多层镍系统必备 | |||||||||
| 的半光亮镍底层。 | |||||||||
| 2、镀层填平度极高，柔软性及电位差数值，均可媲美一般香豆素系统的半光亮镍。 | |||||||||
| 3、操作控制容易，其他半光亮镍工艺亦可轻易转缸为 HC-80。 | |||||||||
| 二、溶液组成及操作条件 | |||||||||
| 硫 酸 镍 | 263～375克/升 | ||||||||
| 氯 化 镍 | 38～53克/升 | ||||||||
| 硼 酸 | 38～50克/升 | ||||||||
| HC-801开缸剂 | 3-5毫升/升 | ||||||||
| HC-802 主光剂 | 0.2-1.0毫升/升 | ||||||||
| DX-17 湿润剂 | 1～3毫升/升 | ||||||||
| 温 度 | 50～70℃ | ||||||||
| PH | 3.5～3.8 | ||||||||
| 电流密度 | 4～7安培/平方分米 | ||||||||
| 搅 拌 | 空气或机械搅拌 | ||||||||
| 过 滤 | 连续循环过滤 | ||||||||
| 三、 消耗量： | |||||||||
| HC-801 开缸剂 主要是带出消耗 | |||||||||
| HC-802 主光剂 80～100毫升/1000安培小时 | |||||||||
| DX-17 湿润剂 20毫升/1000安培小时 | |||||||||
半光镍