一、特点: | |||||||||
1. 阴极电流效率极高,可达 22-26% 。 | |||||||||
2. 可使用电流密度高达 60 安培/平方分米以上。 | |||||||||
3. 沉积速度极高,是一般传统镀硬铬工艺的 2-3 倍。 | |||||||||
4. 跟其它的混合催化剂镀铬工艺不同,DXF-26 不含氟化物,不会侵蚀工件的低电流区。 | |||||||||
5. 镀层的显微硬度达 1000-1100 KHN 100 。 | |||||||||
6. 镀层的微裂纹数可达 1000 条/英寸,防腐蚀能力因而提高。 | |||||||||
7. 镀层平滑,细致光亮。 | |||||||||
8. 镀层厚度均匀,减少高电流区之过厚沉积。 | |||||||||
9. 可用液体添加剂补充,避免铬尘飞扬及溅水。 | |||||||||
10. 不会猛烈侵蚀铅锡阳极,无需使用特殊阳极材料。 | |||||||||
11. 前处理流程、阳极、镀槽等均与一般传统镀铬工艺一样。 | |||||||||
二、操作条件: | |||||||||
范 围 标 准 | |||||||||
铬 酐 225-275 克/升 250 克/升 | |||||||||
硫 酸 2.5-4.0 克/升 2.5 克/升 | |||||||||
DXF - 26 10-30 毫升/升 20 毫升/升 | |||||||||
温 度 55-60℃ 58℃ | |||||||||
阴极电流密度 30-75 安培/平方分米 60 安培/平方分米 | |||||||||
铬酸/硫酸 70-150 : 1 100 : 1 | |||||||||
镀 液 比 重 19-23° 波美 21° 波美 | |||||||||
三、DXF-26补充 | |||||||||
每添加 1㎏ 铬酐,需添加 80毫升DXF-26 、硫酸 10 克(5.4 毫升)即可, | |||||||||
期间视乎工件带出消耗而定。 |
高效硬铬