点击图片查看大图
HX-K系列珍珠镍工艺
一﹑特点
1. 本添加剂不含油性﹐不会产生油污悬浮液面。
2. 本添加剂性能稳定﹐分解慢﹐使生产可长时间连续进行﹐且操作简单。
3. 镀层立体感强﹐洁白光滑﹐不易刮花。
4. 生产中出货快﹐以最短的时间产生最大的产值﹐可大大降低成本。
5. 本光剂可调节镀层之粗细及哑白度﹐以适应不同需求。
6. 在此镀层上可再镀金、银、铬、青铜等镀层。
7. 本光剂挂镀﹑滚镀均可。
二﹑镀液的配比及工艺条件
|
项目
|
范围
|
最佳值
|
|
硫酸镍
|
挂镀380-440克/公斤
|
430克/公斤
|
|
滚镀450-520克/公斤
|
500克/公斤
|
|
|
氯化镍
|
30-40克/公斤
|
35克/公斤
|
|
硼酸
|
30-40克/公斤
|
40克/公斤
|
|
PH值
|
4-4.6
|
4.3
|
|
电流密度
|
4-10A/d㎡
|
6A/d㎡
|
|
搅拌
|
阴极移动
|
3-5米/分钟
|
|
过滤
|
生产时停止
|
收工后用炭粉助滤
|
|
温度
|
50℃-58℃
|
53℃
|
|
时间
|
挂镀30秒-5分钟
|
滚镀15分钟-20分钟
|
三﹑添加剂的应用及作用
1.本光剂之代号为: HX-A1 HX-B1 HX-C1
HX-A1走位剂:是起沙载体还具有走位作用。
HX-B1辅助剂:使镀层光滑白亮。
HX-C1沙 剂:达到珍珠沙的效果。
2.新开缸之配比为: HX-A1走位剂:10-15ml/L
HX-B1辅助剂:6-10ml/L
HX-C1沙 剂:0.5-0.8ml/L(滚镀0.3~0.5ml/L)
四﹑新开缸
1. 至缸之3/5处﹐加热到60℃-70℃。
2. 加量之硼酸(此物难溶解,应先加入并搅拌至溶解)、硫酸镍、氯化镍加入并搅拌至溶解。
3. 加够水﹐加入1-2 ml/L双氧水,保温2小时以上。再加1-2克/L活性碳过滤后作6-8小时之低流电解。
4. 加入应加量之HX-A1﹑HX-B1,搅拌之后加入HX-C1(此物必须稀释20倍-30倍方可加入) ﹐搅拌均匀之后最好先作低电流电解5-10分后即可进行生产。
添加剂的消耗量大致如下: HX-A1:50-100ml/1000安培小时
HX-B1:150-300 ml/1000安培小时
HX-C1:3-5小时添加开缸量1/3左右
五﹑镀液的维护及注意事项
1. 定期测试硫酸镍﹑氯化镍﹑硼酸之含量﹐保持足量。
2. PH值的温度要随时查看并调整在规定范围内。
3. 定期用双氧水﹑活性碳处理镀液,使之保持洁净。
4. 请注意:生产停止时打开过滤机﹐并经常更换清洗棉蕊或炭蕊。生产时无需过滤。
六﹑常见故障及解决方法
|
故障现象
|
生产原因
|
改进方法
|
|
起
沙
慢
|
1.硫酸镍过低
|
1.补加硫酸镍至450克/公斤
|
|
2.PH值过高
|
2.用稀释硫酸调至4.3
|
|
|
3.载体严重不足
|
3.补加HX-A1:1-2 ml/L
|
|
|
4.杂质含量太高
|
4.用双氧水﹑活性炭清缸
|
|
|
5.电流太小
|
5.加大电流
|
|
|
产
生
亮
点
|
1.HX-B1不足
|
1.补加HX-B1: 0.5-2 ml/L
|
|
2.分解产物积累过多
|
2.用活性炭清缸
|
|
|
3.金属杂质积累过多
|
3.加强低电流电解
|
|
|
走
位
差
|
1.硫酸镍不足
|
1.分析后添加至标准
|
|
2.载体不足
|
2.补加HX-A1: 0.5- ml/L
|
|
|
3.杂质含量较多
|
3.以双氧水活性炭清缸并低电流电解
|
七、常见问题处理请参考此标准,若需进一步详细数据或咨询,请致电我司技术部:
技术专线：13537788125 13243796333