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产品参数：
外观：乳白色
PH值：10-12
比重 ：1.265-1.300
粘度 (mPa.s, 25*C) <5
粒径 (nm) ：120-140
Si02% :38-42
产品特点：杂质少，易清洗，无毒无污染。
产品适用：本品主要适用于2、4、6英寸蓝宝石衬底片的高质量平整化精加工工艺。
研磨抛光设备及耗材生产厂家广东先镜研磨工业技术
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研磨抛光设备及耗材生产厂家广东先镜研磨工业技术
详细信息 简介：蓝宝石基片CMP抛光液是新一代水溶性高纯度CMP浆料，具有稳定性好、浓度高、可循环使用等特点，用于蓝宝石基片软抛加工工艺，能够实现晶片移率高，表面平整度高、粗糙度低，表面无麻点、腐蚀坑等微缺陷，多项参数达到国际先进水平。YG-D302型CMP浆料采用单质硅水解工艺制备的致密度更好的胶体并且在辅助催化方面做了改进，具有去除速率高，表面质量好等优势。
产品参数： 外观：乳白色 PH值：10-12 比重 ：1.265-1.300 粘度 (mPa.s, 25*C) <5 粒径 (nm) ：120-140 Si02% :38-42 产品特点：杂质少，易清洗，无毒无污染。 产品适用：本品主要适用于2、4、6英寸蓝宝石衬底片的高质量平整化精加工工艺。 |