一种连续高速选择镀银工艺
日期:2012-02-09 17:13
容易烧焦,但银含量过高会造成镀层粗糙。
2.5.2 游离氰化钾
氰化钾除了与银离子发生配位反应外,还可以提高镀液的导电性能和扩散能力。在该工艺中,由于使用的电流密度较大,为了保证镀液中有足够的银离子,要求游离氰化钾含量较低。游离氰化钾含量过高时,其配位作用会使镀液中可导电的银离子减少,导致工作电流密度只能维持在较低的范围;但氰化钾含量太低时,镀液稳定性变差。
2.5.3 pH
pH应在25℃时测量。pH稳定在一定范围内主要是为了保证氰化银离子在镀液中的稳定。pH太低会造成镀层粗糙,形成针孔,同时镀液会产生银沉淀; pH太高
8/13 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/19 21:59