日期:2012-05-24 17:02
公开号 101906624
公开日 2010.12.08
申请人 中国科学院金属研究所
地址 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
本发明属于化学沉积技术领域,具体为一种制备铁镍磷化学镀层的新方法,该镀层能广泛应用于(微)电子工业、宇航及通用工程。该方法通过酒石酸钾钠、柠檬酸三钠、2种具有─N(CH2COOH)2基团的有机混合添加剂及氨水组成的复合配位体系,控制溶液中游离Fe2+及Ni2+的浓度,抑制镍还原速率的同时提高铁还原速率,从而提高镀层中的铁含量,该复合配位体系可与杂质离子配位,提高溶液可容纳金属杂质离子的浓度,尤其适