日期:2012-09-13 16:05
PVD抛光镀膜技术(物理气相沉积)是相对于CVD(化学气相沉积)来说的。它是一种蒸发镀膜技术，由蒸发、运输、反应、沉积四个物理反应完成材料镀膜的过程，可以说是一种替代电镀的过程。
PVD抛光镀膜技术(物理气相沉积)承袭了化学气相沉积提高表面性能的优点,并克服了化学气相沉积高温易使材料变形等缺点。要知道，在一般化学气相沉积(CVD)的过程中，基体表面发生化学反应所需能量来源于外界热源对于基体表面的加热作用，因此CVD过程温度很高，容易造成材料本身的变形。而物理气相沉积(PVD)不同于化学气相沉积(CVD)，在物理气相沉积(PVD)过程