日期:2013-01-10 09:54
肼镀槽
Rhoda开发了几种用肼作还原剂[2-4]的镀槽(如表201所示)。镀槽中[Pd(NH3)4]2+络合物的制备：将NH3H20小心地加到PdCl2溶液中，然后加热溶液溶解可能存在的沉淀物，如加乙二胺四乙酸作稳定剂以防止溶液自然分解。表201中的槽1适合于滚镀[2]，能以较高速度沉积硬度为l50～350努氏硬度(25g载荷)的软镀层，镀层中的最小含Pd量为99.4%，其密度为11.96g/cm3。
表201化学镀钯工艺规范
肼基镀槽的缺点是使用几小时后沉积速度急剧下降，已经开发[5-7]了几种改良的化学镀钯液以防止镀速的下降。
Paunovic和Ting[5]利用电化学方法研