日期:2013-01-10 10:00
自从1957年[9]使用化学镀钴合金以来，磁盘驱动已成为数字数据记录元件的中心，它具有容量大、存取速度快、可靠性好、成本低等优点。最先认识的记录介质是Y-Fe203粒子分散在有机黏结剂中组成的材料，不久以后开发了薄金属层记录介质，它达到甚至超过了前者的性能。
Fisher等人于1962年[10]首先提出了化学镀钴层在磁记录介质中的应用，并作了大量研究[11-20]。与此同时，电镀钴合金的研究也得到广泛开展[21～27]。由于化学沉积能够批量生产均匀膜层，20世纪70年代曾试图将化学镀层用作磁鼓介质和模拟记录盘。直到1981年[28]化学镀层才真正应