日期:2013-01-10 10:00
用到硬磁盘系统中，该系统中使用了化学镀CoNiP介质和溅射r-Fe203介质。
在实际应用中，成功地使用了各种不同化学镀介质，并且通过精密工艺进行了批量生产。例如[29-37]，生产高可靠性化学镀钴合金介质的基本技术：槽液控制，基体预处理，保护涂层，润滑和工艺控制。表l91列出了生产CoNiP膜层横向记录介质的典型槽液组成和操作条件，表l92列出了膜层的磁性。
利用化学沉积法制备了薄层介质，研究了表面活性对提高磁性的影响[30，38]，为了获得较高的表面记录密度，横向记录介质必须具有较高矫顽磁力(Hc)和较薄的磁介质厚度()，可以通过分