pH对电沉积氧化亚铜薄膜的影响及光催化性能
日期:2013-02-26 09:01
的薄膜光催化能力差异是因为晶面的表面能和稳定性存在差别所致,(200)晶面上是饱和的化学键,无悬挂键存在,而(111)面的表面铜原子带有悬挂键,表面能较高,比(200)面具有更高的催化活性[13-14];同时,(111)晶面的稳定性较好[7-8],在光催化降解过程中不易溶解,可作稳定的光催化剂[8],而(200)面则可能随光催化反应的进行而逐渐溶解或转变,引起薄膜的光催化能力下降。
综合以上分析可知,在光催化降解中,宜采用pH=11下电沉积2h所得的具有(111)取向、与基底附着力较强、光催化活性高和稳定性好的Cu20薄膜。
4结论
(1) -定温度下,通
13/20 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/21 05:28