日期:2012-04-18 09:32
2．离子镀
2．1蒸发源离子镀
蒸发源离子镀是在真空蒸镀的基础上，将真空室抽至低压(10-2～10-3 Pa)，然后通入氩气，提高压强到1～10 Pa，蒸发源用电阻加热，基材接1～5 kV的负偏压，使氩气产生辉光放电，从而形成低温等离子体区，使模具镀材表面原子电离，从而形成蒸发源离子镀的形核并最终完成离子镀膜层[1,4]。这一技术的优点是镀层绕镀能力强，附着性好，组织致密。
2．2 多弧离子镀
多弧离子镀是采用电弧放电直接蒸发靶材，而镀材则加工成阴极靶接电源负极，底座接正极。工作时，将镀层空气抽至10-2 Pa，然后通入氩气或其他气体