日期:2012-04-18 09:33
结论
实验证明，硫酸一甲醇体系适用于钨的电解抛光。初步确定了此体系中钨电抛光的工艺参数：硫酸与甲醇的体积比1：7，电压15～24 V，温度l5～25 ℃，搅拌速率10 m／s。电解抛光后的钨片具有较高的表面质量，平整光滑，无划痕，呈镜面光亮，表面反射率高达98％以上，粗糙度R。由电解抛光前的ll9 nm下降到l2 nm。本文所研究的电解抛光工艺为稀有难熔金属的表面处理提供了新的处理方法。
参考文献：
[l] 刘德斌，邱龙会，付志兵．超细钨丝的电解腐蚀制备及其性能表征[J]．强激光与粒子束，2006，18(3)：521．524．
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