牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在沪举办

 

 

牛津仪器新型纳米技术先进工艺研讨会由来自英国总部OIPT全球运营总监的Dr.David Haynes（下图）上台致开幕词，介绍了牛津仪器的历史、理念和全球业务，着重介绍了纳米设备业务方向、市场战略、OIPTs和MEMS的相关产品及未来趋势，以及提供满足用户需求的解决方案。

 

牛津仪器OIPT全球运营总监的Dr.David Haynes

 

牛津仪器创建于1959年，生产分析仪器、半导体设备、超导磁体、超低温设备等高技术产品，曾13次荣获英国创新女王奖。牛津仪器拥有很多的第一，1961年推出首台磁体；1966年推出世界首台稀释制冷机；1978年首台用于全身核磁共振成像的超导磁体面世；1990年首台X射线探测器荣获R&D 100奖；1997年推出世界首台手持式XRF分析仪；2006年推出首台商业动态核极化设备(DNP)；2013年牛津仪器X光管登陆火星...牛津仪器始终关注这中国的发展早在40年前其产品就进入了中国市场，目前牛津仪器在北京、上海、广州和成都设有分公司或办事处，为中国用户提供及时而有效的服务。

 

牛津仪器二维材料资深科学家Dr.Ravi Sundaram

 

牛津仪器二维材料资深科学家Dr.Ravi Sundaram上台作《二维材料工艺研讨》的精彩演说。Dr.Ravi Sundaram介绍了几种不同的超越石墨烯的二维材料，当前二维材料正受到越来越多的关注，越来越多的领域需要使用二维材料。而二维材料又该如何操作呢?

 

牛津仪器Nanofab能进行原位催化剂活化和精确的工艺控制，可以实现高效能的纳米材料生长。Nanofab采用化学气相沉积(CVD)工艺，微纳米材料的研究提供机械设备，可应用于原子层沉积和相对较厚的薄膜沉积。

 

牛津仪器OIPT全球运营总监的Dr.David Haynes带来《采用ALD与ALE进行纳米制造》的精彩报告。原子层沉积(ALD)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处，但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。ALE是以单原子层为单位进行的外延生长，可以教精确的控制外延层厚度和异质结界面，是制作超晶格、量子阱等低维结构的化合物薄膜材料较好的生长方法。

 

原子层沉积(ALD)具有高深宽比结构的保形涂层，可微纳米应用提供精确可控的超薄膜。这款开放式进样热ALD可与等离子体进行集成，可现场升级与等离子体进行适配。

 

牛津仪器MEMS和传感器运营经理Mr.Michael Steel

 

牛津仪器MEMS和传感器运营经理Mr.Michael Steel带来《提高刻蚀产能新工艺》的精彩报告。Mr.Michael Steel主要介绍了刻蚀新工艺——深硅刻蚀技术，这项技术增强了刻蚀工艺的灵活性。

 

PlasmaPro 100 深硅刻蚀专为HBLED材料苛刻的化学要求而设计，能在最大直径为200mm的晶圆上获得均匀、快速的蚀刻速率。配置的专用的静电夹还可以夹持蓝宝石、蓝宝石上的GaN和硅，具备主动冷却电极可在蚀刻过程中维持样本温度不变、高功率ICP源可产生高密度的等离子体、磁隔离装置可用于增强离子控制和均匀度、高导电的泵送系统等特点。

 

最后，Dr.David Haynes又为参会人员带来《PECVD新技术》的精彩报告，报告介绍了感应耦合等离子体-化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积、物理气相沉积技术等。

 

牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任，为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的等离子体设备、原子层沉积设备等；同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐，包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持等。