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电镀工艺管理——电源因素对电镀过程的影响

放大字体  缩小字体发布日期:2011-11-23  浏览次数:940

电镀加工或实验过程中,不少人有过这样的经验,即使完全按照技术资料提供的配方和化学原料来重复某项电镀过程,结果与资料的介绍仍然有很大的差异,经过一些周折,才发现是使用了不同的电源。不同电源对电镀过程有影响是肯定的,所谓不同的电源主要是指电源的波形的不同。大家知道所有的电源根据供电方式的不同应有单相和三相之分。对于直流电源来说,除了直流发电机组或各种电池的电源在正常有效时段是平稳的直流外,由交流电源经整流而得到的直流电源,都多少带有脉冲因素,尤其是半波整流,明显有负半周是没有正向电流的,即使是单相全波,也存在一定脉冲率,加上所采用的滤波方法的不同、供电电网的稳定性等,都会使电镀电源存在着明显的不同。但是,在没有注意到这种不同时,其对电镀过程的影响往往会被忽视。

 

通常认为,平稳的直流或接近平稳的直流是理想的电镀电源。但是,实际情况并非如此,在有些场合,有一定脉冲的电流可能对电镀过程更为有利。   

 

事实上,早在20世纪l0年代,就有人用换向电流进行过金的提纯。在20世纪50年代,则有人用这种方法试验从溴化钾一三溴化铝中镀铝,与此同时,可控硅整流装置的出现,使一些电镀技术开发人员注意到不同电源波形对电镀过程的影响,这种影响有时是有利的,有时是不利的。到了20世纪70年代,电源对电镀过程存在影响已经成为电镀工作者的共识。现在,电源波形已经作为工艺参数之一在有些工艺中成为必要条件。

 

(1)描述电源波形的参数

 

在有关电源波形影响的早期的研究中,一般使用两个概念来定量地描述电源波形,这就是波形因素(F)和脉冲率(W)。F=Ieff/Io

 

 

式中Ieff表示电流的交流实测值;

Io-表示直流的稳定成分;

I-表示电路中的总电流。

 

这种表达方式比较简明,并且所有几个参数都能用电表进行测量获得。根据上述表达方式,各种电源波形的参数见表。

电源波形及参数

电源及波形