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《薄膜材料与薄膜技术》

发布日期：2011-11-23 浏览次数：939

【作者】郑伟涛等编著

【出版单位】化学工业出版社

【出版日期】2004-1-1

【定价】￥38 元

【图书简介】

　　本书系统阐述了薄膜材料与薄膜技术的基本理论和基本知识，重点介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学和物理沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征、对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评论和展望。

【图书目录】

第一章真空技术基础1 第一节真空的基本知识1 一、真空度的单位1 二、真空区域的划分2 三、固体对气体的吸附及气体的脱附2 第二节真空的获得3 一、旋片式机械真空泵4 二、复合分子泵5 三、低温泵6 第三节真空的测量7 一、电阻真空计7 二、热偶真空计8 三、电离真空计9 参考文献10 第二章薄膜制备的化学方法11 第一节热生长11 第二节化学气相沉积12 一、一般的化学气相沉积反应13 二、化学气相沉积制备薄膜的传统方法15 三、激光化学气相沉积20 四、光化学气相沉积20 五、等离子体增强化学气相沉积25 第三节电镀34 第四节 <a href="http://www.hqddw.cn/chanpin/fenlei/210.html" target="_blank">化学镀</a>35 第五节 <a href="http://www.hqddw.cn/chanpin/fenlei/156.html" target="_blank">阳极</a>反应沉积法 36第六节 LB技术 38参考文献40 第三章薄膜制备的物理方法47 第一节真空蒸发47 一、真空蒸发沉积的物理原理47 二、真空蒸发技术49 第二节溅射68 一、溅射的基本原理69 二、溅射镀膜的特点72 三、溅射参数72 四、溅射装置73 第三节离子束和离子助99 一、离子镀100 二、阴极电弧等离子体沉积108 三、热空阴极枪蒸发111 四、共离子轰击沉积112 五、非平衡磁控离子助沉积117 六、离子束沉积117 第四节外延膜沉积技术119 一、分子束外延（MBE) 120 二、液相外延生长（LPE) 124 三、热壁外延生长（HWE) 125 四、有机金属化学气相沉积（MOCVD) 130 参考文献134 第四章薄膜的形成与生长142 第一节形核142 一、凝聚过程142 二、Langmuir-Frenkel凝聚理论144 三、成核理论145 四、实验结果149 第二节生长过程155 一、一般描述155 二、类液体合并157 三、沉积参数的影响159 第三节薄膜的生长模式166 第四节远离平衡态薄膜生长的研究168 一、粗糙表面的结构和生长169 二、简单模型179 三、薄膜生长模型的实验研究182 参考文献183 第五章薄膜表征186 第一节薄膜厚度控制及测量186 一、沉积率和厚度监测仪186 二、膜厚度测量189 第二节组分表征191 一、卢瑟福背散射（RBS) 192 二、二次离子质谱仪 (SIMS) 201 三、X射线光电子能谱 (XPS) 203 四、俄歇电子能谱208 五、电镜中的显微分析216 第三节薄膜的结构表征222 一、衍射参数222 二、热振动与Debye-Waller因子223 三、低能电子衍射（LEED) 224 四、掠入射角X射线衍射(GIXS)228 五、透射电子显微镜230 第四节原子化学键合表征232 一、能量损失谱（EELS) 232 二、扩展X射线238 三、红外吸收光谱和拉曼光谱241 第五节薄膜应力表征243 参考文献247 第六章薄膜材料248 第一节超硬薄膜材料248 一、超硬材料248 二、金刚石薄膜252 三、金刚石的性质及应用257 四、类金刚石薄膜材料260 五、CNx薄膜材料275 第二节智能薄膜材料281 一、形状记忆合金薄膜材料281 二、NiTi形状记忆合金薄膜的制备和表征283 三、形状记忆合金及薄膜的应用285 第三节纳米薄膜材料285 一、纳米多层膜涂层287 二、纳米复合硬质涂层288 三、应用及展望291 第四节三族元素氮化物(III-N)薄膜材料292 一、三族元素氮化物半导体材料的重要性292 二、材料制备与生长293 三、III-N化合物的光学性质296 第五节磁性氮化铁薄膜材料297 一、概述297 二、氮化铁薄膜材料的相结构297 三、氮化铁薄膜材料的制备与表征299 第六节巨磁阻锰<a href="http://www.hqddw.cn/chanpin/fenlei/149.html" target="_blank">氧化物</a>薄膜材料303 一、概述303 二、磁阻的定义304 三、钙钛矿锰氧化物薄膜中的CMR效应及机制研究304 四、锰氧化物薄膜制备工艺及表征手段307 五、巨磁电阻薄膜材料的应用现状308参考文献309

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