《薄膜材料与薄膜技术（第二版）》

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第一章 真空技术基础 第一节 真空的基本知识 一、表示真空程度的单位 二、真空区域的划分 三、固体对气体的吸附及气体的脱阳 第二节 真空的获得 一、旋片式机械真空泵 二、复合分子泵 三、低温泵 第三节 真空的测量 一、电阻真空计 二、热偶真空计 三、电离真空计 参考文献 第二章 薄膜制备的化学方法 第一节 热氧化生长 第二节 化学气相沉积 一、一般化学气相沉积反应 二、化学气相沉积制备薄膜的传统方法 三、激光化学气相沉积 四、光化学气相沉积 五、等离子体增强化学气相沉积 第三节 电镀 第四节 <a href="http://www.hqddw.cn/chanpin/fenlei/210.html" target="_blank"><strong class="keylink">化学镀</strong></a> 第五节 <a href="http://www.hqddw.cn/chanpin/fenlei/156.html" target="_blank"><strong class="keylink">阳极</strong></a>反应沉积 第六节 LB技术 参考文献 第三章 薄膜制备的物理方法 第一节 真空蒸发 一、真空蒸发沉积的物理原理 二、真空蒸发技术 一、溅射的基本原理 二、溅射镀膜的特点 三、溅射参数 四、溅射装置 第三节 离子束和离子助 一、离子镀 二、阴极电弧等离子体沉积 三、热空阴极枪蒸发 四、离子轰击共沉积 五、非平衡磁控离子助沉积 六、离子束沉积 第四节 外延生长 一、分子束外延(MBE) 二、液相外延生长(LPE) 三、热壁外延生长(HWE) 四、有机金属化学气相沉积(MOCVD) 参考文献 第四章 薄膜的形成与生长 第一节 形核 一、凝聚过程 二、Langmuir-Frenkel凝聚理论 三、成核理论 四、实验结果 第二节 生长过程 一、一般描述 二、类液体合并 三、沉积参数的影响 第三节 薄膜的生长模式 第四节 远离平衡态薄膜生长 一、粗糙表面的结构和生长 二、简单模型 三、薄膜生长模型的实验研究 参考文献 第五章 薄膜表征 第一节 薄膜厚度控制及测量 一、沉积率和厚度监测仪 二、膜厚度测量 第二节 组分表征 一、卢瑟福背散射(RBS) 二、二次离子质谱仪(SIMS) 三、X射线光电子能谱(XPS) 四、俄歇电子能谱 五、电镜中的显微分析 第三节 薄膜的结构表征 一、衍射参数 二、热振动与Debye-Waller因子 三、低能电子衍射(LEED) 四、掠入射角X射线衍射(GIXS) 五、透射电子显微镜 第四节 原子化学键合表征 一、能量损失谱(EELS) 二、扩展X射线 三、振动光谱：红外吸收光谱和拉曼光谱 第五节 薄膜应力表征 参考文献 第六章 薄膜材料 第一节 超硬薄膜材料 一、超硬材料 二、金刚石薄膜 三、类金刚石薄膜材料 四、CN薄膜材料 第二节 智能薄膜材料 一、形状记忆合金薄膜材料 二、NiTi形状记忆合金薄膜的制备和表征 三、形状记忆合金及薄膜的应用 第三节 纳米薄膜材料 一、纳米多层膜涂层 二、纳米复合硬质涂层 三、应用及展望 第四节 石墨片二维薄膜材料 一、石墨片的实验制备 二、石墨片的性质 三、展望 第五节 磁性氮化铁薄膜材料 一、氮化铁薄膜材料的相结构 二、氮化铁薄膜材料的制备与表征 第六节 巨磁阻锰<a href="http://www.hqddw.cn/chanpin/fenlei/149.html" target="_blank"><strong class="keylink">氧化物</strong></a>薄膜材料 一、磁阻的定义 二、钙钛矿锰氧化物薄膜中的CMR效应及机制研究 三、锰氧化物薄膜制备工艺及表征手段 四、巨磁电阻薄膜材料的应用现状 参考文献