在沉铜层上镀铜的阴极初始过程研究
日期:2012-05-21 10:40
控制显得尤为重要。然而,更为重要的是弄清其失效的产生机理。
  2问题背景
  笔者负责的全板电镀线,生产工艺成熟,品质稳定。然而过程监控偶有发现电镀后孔铜偏薄现象,出现概率虽低,但作为制程异常警示,笔者对其深入跟进分析,推断产生此现象的原因为电镀初期的阴极过程影响所致。以下笔者通过实验来验证推断的正确性。
  3提出并验证产生机理
  笔者推断原因为:电镀的初期一段时间内,包含两个过程:
  (1)过程1是修补沉铜层缺陷的过程,此阶段对铜厚增长无明显贡献。
  众所周知,沉铜层覆盖的完整性是以背光级
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