在沉铜层上镀铜的阴极初始过程研究
日期:2012-05-21 10:40
图3。



  实际生产过程中,亦有事实可证明以上机理。图4单点铜薄是典型的例子,孔壁沉铜层固有的缺陷导致此结果。



  所以,通过以上实验证明了电镀初期所经历的阴极过程。正是因为此过程的存在,使得有部分时间浪费在过程1,真正用于铜厚增长的时间打了折扣,结果自然是铜薄了。
  4结语
  本文通过实验有力证明了机理的正确性,顺理成章地解释了电镀后偶有的孔铜偏薄现象,同时揭示了沉铜与电镀铜之间存在的必然联系,也显示了实现孔金属化功能的沉铜制程的极其重要性。在传统的采用沉铜+全板电镀的工艺中,通过本
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