十六烷基三甲基溴化铵对氢气泡模板法对电沉积多孔铜薄膜的影响
日期:2012-06-21 18:29
粒子的形成。此外,CTAB分子同时吸附在镀液和基片之间以及镀液和氢气泡之间,表面张力的减小将使氢气泡形成和逃离基片的时间缩短,致使没有充足的时间产生氢气泡。
4结论
(1)以氢气泡为模板成功制得三维多孔铜膜。镀液中CTAB的含量以6.50g/L为宜。
(2)加入添加剂CTAB后,镀液的性质改变,这主要由CTAB的性质引起oCTAB溶解于镀液中时,其正电荷部位吸附于沉积层表面,使沉积过程改变,从而使多孔铜膜的孔径大小及孔壁的形态结构改变,得到孔径更小、孔壁上纳米粒子更致密的三维多孔铜膜。



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