日期:2012-06-26 15:45
6.1.1真空镀膜vacuum coating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。
6.1.2基片substrate：膜层承受体。
6.1.3试验基片testing substrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。
6.1.4镀膜材料coating material：用来制取膜层的原材料。
6.1.5蒸发材料evaporation material：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。
6.1.6溅射材料sputtering material：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。
6.1.7膜层材料(膜层材质)film material：组成膜层的材料。
6.1.8蒸发速率evaporat