日期:2012-06-26 15:45
基片达到理想温度的装置。
6.3.16基片冷却装置substrate colding device：在真空镀膜设备中,通过冷却能使一个基片或几个基片达到理想温度的装置。
6.4真空镀膜设备
6.4.1真空镀膜设备vacuum coating plant：在真空状态下制取膜层的设备。
6.4.1.1真空蒸发镀膜设备vacuum evaporation coating plant：借助于蒸发进行真空镀膜的设备。
6.4.1.2真空溅射镀膜设备vacuum sputtering coating plant：借助于真空溅射进行真空镀膜的设备。
6.4.2连续镀膜设备continuous coating plant：被镀膜物件(单件或带材)连续