日期:2012-06-26 15:45
ion rate：在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔
6.1.9溅射速率sputtering rate：在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。
6.1.10沉积速率deposition rate：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。
6.1.11镀膜角度coating angle：入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。
6.2工艺
6.2.1真空蒸膜vacuum evaporation coating：使镀膜材料蒸发的真空镀膜过程。
6.2.1.1同时蒸发simultaneous evaporation：用数个蒸发器把各种蒸发材料同时蒸镀