真空镀膜技术常识及英文术语
日期:2012-06-26 15:45
.2.2.4非对称性交流溅射asymmtric alternate current sputtering:通过二个电极间的非对称性交流电压,使气体自持放电并把靶作为吸收较大正离子流的电极。
  6.2.2.5高频二极溅射high frequency diode sputtering:通过二个电极间的高频电压获得高频放电而使靶极获得负电位的溅射。
  6.2.2.6热阴极直流溅射(三极型溅射)hot cathode direct current sputtering:借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电,气体放电所产生的离子,由在阳极和阴极(靶)之间所施加的电压加速而轰击靶的溅射。
  6.2.2.7 热阴极高频溅射(三极型溅射)h
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