日期:2012-06-26 15:45
ot cathode high frequency sputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。
6.2.2.8离子束溅射ion beam sputtering：利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。
6.2.2.9辉光放电清洗glow discharge cleaning：利用辉光放电原理，使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。
6.2.3物理气相沉积;PVD physical vapor deposition：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。
6.2.4化学气相沉积