日期:2012-06-26 15:45
6.2.7空心阴极离子镀HCD hollow cathode discharge deposition： 利用空心阴极发射大量的电子束，使坩埚内镀膜材料蒸发并电离，在基片上的负偏压作用下，离子具有较大能量，沉积在基片表面上的一种镀膜方法。
6.2.8电弧离子镀arc discharge deposition：以镀膜材料作为靶极，借助于触发装置，使靶表面产生弧光放电，镀膜材料在电弧作用下，产生无熔池蒸发并沉积在基片上的一种镀膜方法。
6.3专用部件
6.3.1镀膜室coating chamber：真空镀膜设备中实施实际镀膜过程的部件
6.3.2蒸发器装置evaporator device：真空镀