真空镀膜技术常识及英文术语
日期:2012-06-26 15:45
6.2.7空心阴极离子镀HCD hollow cathode discharge deposition: 利用空心阴极发射大量的电子束,使坩埚内镀膜材料蒸发并电离,在基片上的负偏压作用下,离子具有较大能量,沉积在基片表面上的一种镀膜方法。
  6.2.8电弧离子镀arc discharge deposition:以镀膜材料作为靶极,借助于触发装置,使靶表面产生弧光放电,镀膜材料在电弧作用下,产生无熔池蒸发并沉积在基片上的一种镀膜方法。
  6.3专用部件
  6.3.1镀膜室coating chamber:真空镀膜设备中实施实际镀膜过程的部件
  6.3.2蒸发器装置evaporator device:真空镀
9/14 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/11 20:11