日期:2012-07-03 15:48
系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射枪(sputter gun) 磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30- 40%，圆柱型靶材料利用率50% 溅射电源分为：直流(DC)、射频(RF)、脉冲(pulse)，直流：800-1000V(Max)导体用，须可灾弧。 射频：13.56MHZ，非导体用。
脉冲：泛用，最新发展出溅镀时须控制参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力(510-11.0Pa),若各参数皆稳定，膜厚可以镀膜时间估计出来。 靶材的选择与处理十分重要，纯度要佳，质地均匀，没有气泡、缺陷，表面应平整光洁。对于直