日期:2012-07-03 15:48
系统,溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射枪(sputter gun) 磁控溅射枪分为平面型和圆柱型,其中平面型分为矩型和圆型,靶材料利用率30- 40%,圆柱型靶材料利用率50% 溅射电源分为:直流(DC)、射频(RF)、脉冲(pulse),直流:800-1000V(Max)导体用,须可灾弧。 射频:13.56MHZ,非导体用。
脉冲:泛用,最新发展出溅镀时须控制参数有溅射电流,电压或功率,以及溅镀压力(510-11.0Pa),若各参数皆稳定,膜厚可以镀膜时间估计出来。 靶材的选择与处理十分重要,纯度要佳,质地均匀,没有气泡、缺陷,表面应平整光洁。对于直