磁头晶片功能性镍-铁合金电镀工艺
日期:2012-07-04 11:20
rialsResearch Corp.,USA);Ni-Fe合金电镀设备:TOMCOCopper Plating Equipment(TOMCO Mfg.Ltd.,Ja-pan);镀Ni-Fe合金溶液V为450 L,晶片的装载量为最多12片/批,同时在4个槽中进行电镀。磁致伸缩测量设备:Automated Magnetostriction Tester(型号:LAMBDA08,LAFOUDA Solutions,USA);粗糙度测量设备:原子力显微镜(型号:Dimension 3100,Digital Instruments,USA);内应力测量设备:TencorP2 Profiler(KLA-Tencor Co.,USA)。
  1.2 Ni-Fe合金镀层的电镀要求
  Ni-Fe合金镀层的电镀要求见表1。


  1.3电镀Ni-Fe合金的工艺流
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